应我院邢献然教授的邀请，西澳大学的刘亦农教授于2011年12月16日下午来我院作了题为“PECVD SiNx薄膜的稳定性研究”的报告。
    在报告中刘亦农教授首先简要的介绍了他们实验室正在研究的一些课题，包括形状记忆合金，磁性材料，电化学合成金属纳米线，水热合成微/纳米碳材料。在接下来的报告中刘教授重点介绍了SiNx薄膜做为微电子制造中一种普遍的结构材料，它具有优异的机械性能并且其结构性质稳定性以及微加工过程中具有很好的兼容性。然而，其最近的研究发现这些通过PECVD方法制备的薄膜是无定形的并且其化学计量比不是Si3N4，在高温下并不稳定。这将导致其机械性能的变化并损害这些材料在红外探测器中的应用。在研究中通过XPS, FT-IR, SEM和 TEM表征了其化学结构和微观形貌。发现加热是导致这一变化的最要的原因，包括脱水，SiNxHy 氧化变为SiNxOy和 SiOy。此外，薄膜表现出复杂的物理损伤，包括圆形小孔，随机的裂缝和晶体团簇的形成。而这些现象前人都没有报道过。 
    报告结束后，同学们又相继对在报告中谈到的自己所感兴趣的一些方面进行了提问，刘亦农教授也一一耐心地作了解答。